高密度光互连开发需要同时处理芯片接口、光学对准与封装工艺。西安洛微将硅基平台、RX接收组件与微光学方案共同评估,围绕客户指定的PIC、电子芯片和光纤配置开展设计协作。
从接口定义、容差分配到制造路径,围绕系统要求开展方案分析和样品验证。
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将微透镜、FAU与PIC的光学接口共同设计,评估装配偏差、热漂移和材料匹配对耦合效率的影响。
02
结合PD与TIA集成需求及Interposer布局,检查带宽、噪声、寄生参数与散热之间的匹配关系。
03
在设计阶段考虑可装配性、可测试性及后续工艺转移,具体封装路线依据合作产线能力和验证结果确定。
围绕客户指定的芯片和光纤配置定义开发边界,将接口、模型分析与样品测试相衔接。
耦合效率、互连性能和封装路线依据模型分析、工艺验证及样品测试结果确定;具体开发范围和验收要求按项目约定。
从紧凑型接收光路到高密度光引擎,结合空间、损耗、热机械和测试要求确定方案。
关注紧凑布局、接收链路损耗与装配一致性,以SiOB、RX与耦合光学件协同切入。
关注多芯片互连、高密度光纤接口与热设计,开展Interposer与混合集成平台联合开发。
关注封装边界、光学接口、热机械与测试要求,开展硅基平台与耦合组件的定制评估。
从现有设计适配、单项器件定制到组件联合开发,围绕客户规格确定工程样品与验证路径。
基于现有设计匹配客户光路和结构要求,评估微透镜、FAU、DeMUX及硅基载体的适配路径。
围绕透镜、FAU、DeMUX或封装载体进行规格调整与开发,明确关键参数、公差及工艺边界。
支持PIC、耦合光学件与接收组件的接口协同和集成设计,推进工程样品、测试和验证导入。
无论是标准器件选型、光路耦合方案,还是联合开发需求,欢迎与技术团队沟通。