WAFER-LEVEL OPTICS · SILICON LENSES

WLO硅透镜与微透镜阵列

以晶圆级微纳光学支持多通道精密耦合

WLO硅透镜面向1310 nm、1550 nm等红外光路,提供准直、聚焦及光纤耦合功能。通过球面、非球面和微透镜阵列设计,将光束形态、通道间距与封装空间共同纳入光学设计,适用于高速可插拔光模块,并支持NPO、CPO项目的定制开发。

CUSTOMER VALUE

从单颗透镜到阵列,
围绕光路定义面型

让光束形态、阵列节距和封装空间共同参与设计,支持多通道光学接口匹配。

01

按光路设计面型

支持单颗透镜与M×N阵列,可围绕数值孔径、通光口径、曲率半径和工作距离进行设计

02

阵列化制造

依托晶圆级工艺控制面型、间距与尺寸一致性,减少多颗分立透镜逐一装配的复杂度

03

硅材料匹配

硅透镜与硅基芯片具有接近的热膨胀特性,有利于热机械匹配;实际温漂仍需结合胶材和整体封装验证。

PROCESS CAPABILITIES

参考工艺能力

球面与非球面透镜的工艺能力参考,用于前期选型和光学方案评估。

参数球面透镜非球面透镜
面型偏差 SPD<25 nm<25 nm
增透膜参考范围1260–1620 nm,R<0.5%1260–1620 nm,R<0.5%
器件尺寸公差±10 μm±10 μm
器件厚度公差±20 μm±20 μm
切割角度公差±1.5°±1.5°
表面粗糙度<5 nm<5 nm
圆锥系数0−10至0
常用阵列间距0.25 / 0.5 / 0.75 mm0.25 / 0.5 / 0.75 mm
阵列间距公差±1 μm±1 μm
中心至器件边缘距离公差单边±5 μm单边±5 μm

以上为工艺能力参考,不代表所有规格可在同一设计中同时实现。镀膜条件、面型定义、测量口径及公差组合由项目规格书确定。

APPLICATION

面向红外光路的
准直、聚焦与耦合

从可插拔光模块到NPO、CPO项目,结合耦合对象与装配空间确定光学接口。

可插拔光模块

围绕1310 nm、1550 nm等红外光路,评估透镜的准直、聚焦与光纤耦合配置。

多通道阵列耦合

依据目标光斑、通道间距和工作距离,确定单颗或M×N阵列结构及装配基准。

NPO / CPO定制

结合PIC、FAU和硅基封装平台,共同评估微透镜接口、装配偏差和热机械匹配。

OPTICAL CONFIGURATIONS

三类光学配置,
匹配不同耦合需求

提供工作波长、光源或探测器参数、目标光斑、工作距离和装配空间,可协助确定透镜类型与阵列配置。

01

球面硅透镜

围绕数值孔径、通光口径、曲率半径及工作距离,评估现有设计适配与新规格开发。

02

非球面硅透镜

根据目标光斑和光路要求评估非球面设计,面型定义及公差组合由项目规格书确定。

03

微透镜阵列

支持球面或非球面阵列,协同定义通道排列、阵列节距、厚度与装配接口。

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